国产光刻机，突破封锁，迈向科技自立的新征程，国产光刻机，突破封锁，开启科技自立新征程的里程碑。

近年来，中国在光刻机领域取得了重大突破。经过多年的研发和努力，“上海微电子”等企业成功研制出90纳米精度的国产首台套高端G系列干式曝光样机和13.5纳米的浸没/双工件台式扫描曝系统（TWS），标志着我国正式迈入科技自...

阅读全文 孤独的自我 332 次浏览 2025-01-30 画册设计